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產品概述： 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統由真空腔室（外延室、進樣室）、樣品傳遞機構、樣品架、立式旋轉靶臺、基片加熱臺、抽氣系統、真空測量、工作氣路、電控系統、計算機控制等各部分組成。 設備用途： 脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡稱PLD)是新近發展起來的一項技術，繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導薄膜之后，它的優點和潛力逐漸被人們認識和重視。

MARS iCE120 多片碳化硅外延系統，產能大，6 英寸運營成本低,薄膜和厚膜外延兼容，工藝穩定性高。

Hesper I E430R 12英寸單片減壓硅外延系統，優異的氣流場和加熱場設計提供優良的工藝性能。

Hesper E230A 12英寸單片常壓硅外延系統，優異的氣流場和加熱場設計提供優良的工藝性能。

Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸減壓選擇性外延系統，多區紅外加熱協同激光微區補償，溫場均勻可控。

Esther/Eris 系列 8英寸單片常壓/減壓硅外延系統，傳輸系統和工藝模塊設計可兼容多種工藝用途，友好的人機交互和安全性設計保障系統穩定、安全、高效，具有單腔和多腔兩種機型，可滿足不同客戶需求。