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超景深顯微鏡

簡要描述:超景深顯微鏡概述:本套系統主要用于材料表面形貌的觀察;平面或三維測量。可采用3D觀測模式,對被測物形狀,粗糙度,表面積等進行測量,可以做高度,寬度,橫截面,角度,R值,表面積,體積,線粗糙度,面粗糙度等的測量分析。同時可以做材料斷口、金相的觀測,陶瓷,微流道,微加工,現代加工制造,MEMS研究,微納制造等。

  • 產品型號:customized
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-06-05
  • 訪  問  量: 1441

詳細介紹

一、產品概述:

超景深顯微鏡是一種先進的光學顯微鏡,能夠在較大深度范圍內獲得清晰的圖像,適用于觀察復雜樣品的三維結構。它通過特殊的成像技術,提供比傳統顯微鏡更深的景深,廣泛應用于生命科學、材料科學和工業檢測等領域。

本套系統主要用于材料表面形貌的觀察;平面或三維測量。可采用3D觀測模式,對被測物形狀,粗糙度,表面積等進行測量,可以做高度,寬度,橫截面,角度,R值,表面積,體積,線粗糙度,面粗糙度等的測量分析。同時可以做材料斷口、金相的觀測,陶瓷,微流道,微加工,現代加工制造,MEMS研究,微納制造等。

二、設備用途/原理

·設備用途

超景深顯微鏡主要用于生物樣品、材料表面及微結構的觀察和分析。常見應用包括細胞形態學研究、材料缺陷檢測、電子元件的分析等。它能夠幫助研究人員更好地理解樣品的三維特性,提高分析的準確性和效率。

·工作原理

超景深顯微鏡采用多焦點成像技術,通過獲取多個焦平面上的圖像,并利用圖像處理算法合成出一個具有更大景深的清晰圖像。這種方法允許用戶在一個圖像中同時觀察到樣品的多個層次,消除了因焦平面限制而導致的細節丟失。通過這種技術,用戶可以更全面地分析樣品的微觀特征,提升觀察效果。

三、主要技術指標:

1. 光源類型:≤404nm半導體激光

2. X/Y方向測量顯示分辨率:1nm

3. Z向測量顯示分辨率:0.5 nm                  

4. 面掃描速度:≥125Hz、線掃描速度:≥7900Hz          

5. 角度特性:穩定測量傾角≥87.1度的斜面

6.XY載物臺電動運行范圍:≥100mm*100mm


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