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  • POLI-400Lcmp拋光機

    POLI-400Lcmp拋光機是4&6英寸小型化學機械拋光機,采用手動裝片方式,氣囊薄膜柔性加壓,可配置摩擦力&溫度終點監控系統,用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產品的平坦化拋光,應用廣泛。

    更新時間:2025-06-05
    型號:POLI-400L
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:808
  • TMP-200S/300S半自動CMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜(介質層)的拋光設備,操作便捷,兼容性強,通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容,采用手動裝片方式,可配置半自動loading系統,氣囊薄膜柔性加壓,用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產品的平坦化拋光,應用廣泛

    更新時間:2025-06-05
    型號:TMP-200S/300S
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:681
  • TMP-150A/200ACMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜(介質層)的拋光設備,操作便捷,兼容性強,通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容,采用手動裝片方式,可配置半自動loading系統,氣囊薄膜柔性加壓,用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產品的平坦化拋光,應用廣泛

    更新時間:2025-06-05
    型號:TMP-150A/200A
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:572
  • TPC-2110全自動CMP拋光機

    全自動CMP拋光機是一款針對薄膜(介質層)的全自動拋光設備,操作便捷,兼容性強,通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容,采用自動化裝片方式,機械手自動取放片,同時搭配雙面PVA滾刷進行在線刷洗功能,實現干進干出,用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產品的平坦化拋光,應用廣泛。

    更新時間:2025-06-05
    型號:TPC-2110
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:630
  • TDL-600/1200雙面晶圓研磨機

    雙面研磨機是一款操作簡單,兼容性強的高效率研磨加工設備。主要用于晶片的雙面機械研磨,通過搭配不同材質的研磨盤和不同粒徑及材質的研磨液,可以實現不同材料,不同尺寸,不同厚度的晶片研磨。

    更新時間:2025-06-05
    型號:TDL-600/1200
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:685
  • IHG-2010臥式減薄機

    臥式減薄機是一款性價比很高的小型高精度研削設備,采用砂輪軸橫臥的安裝方式,手動裝片,通過砂輪進給控制研削量。設備工作臺可根據客戶需求進行定制化,應用廣泛。

    更新時間:2025-06-05
    型號:IHG-2010
    廠商性質:經銷商
    瀏覽量:615
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