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掩模對準光刻機是用于 300 mm 和 200 mm 晶圓的高度自動化掩模對準平臺。SUSS MicroTec 的 MA300 Gen3 是一款高度自動化的掩模對準平臺，適用于 300 毫米和 200 毫米晶圓。它專為 3D 封裝、晶圓級封裝和倒裝芯片應用而設計，但也可用于必須暴露 4 微米和 100 微米幾何形狀范圍的其他技術。

可靠、快速和可重復的手動和自動檢測 基于VoidInspect的自動氣泡計算 易于使用的動態增強過濾功能，例如eHDR 使用micro3Dslice和FF CT軟件的最佳層析成像技術 針對敏感器件的劑量降低套件和低劑量檢測模式 市面上的超低占地面積

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用于電池、太陽能和柔性電子產品的功能性原子層沉積涂層，是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態電池的陰極和陽極的鈍化，用于柔性太陽能電池的導電層和封裝，用于柔性電子產品的防潮層。

ACS200 Gen3 涂膠和顯影機是創新組件和經過生產驗證的組件結合的成功結果。它具有多達 4 個濕法工藝模塊和最多 19 塊板的能力，非常適合大批量生產 （HVM） 的需求。模塊和技術的配置靈活性不僅滿足了先進封裝、MEMS和LED市場的需求，而且還彌合了研發和HVM之間的差距。