Kurt J. Lesker Company 的 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一代薄膜沉積系統。SPECTROS平臺在全球擁有100多臺設備，是一種成熟、堅固和多功能的設計。SPECTROS建立在原始設計的成功基礎上，改進了系統基礎壓力和抽空時間。腔室設計、具有高級編程功能的行業最佳軟件控制系統、實時配方線程操作以及用于優化薄膜性能的眾多功能，這些都是這種創新的設計提供的一些關鍵優勢。®

SPECTROS 150與以下技術兼容：

• 1cc 或 10cc LTE 信號源（除熱源外，最多 10 個信號源）

• 4 英寸熱源（除 LTE 源外，最多 4 個源）

• TORUS 磁控濺射源（最多 8 個 2“ 或 3" 源）®

• 電子束蒸發源（4口袋8cc，8口袋12cc，6口袋20cc）

• 上述技術的組合也可用

• 可根據要求提供定制配置

SPECTROS™ 150 的工藝室提供兩種類型的高真空泵：標配 Pfeiffer 790 L/s 渦輪分子泵或可選的 Brooks CTI-8F 1500 L/s 低溫泵。SPECTROS 150的任何沉積配置都可以選擇這兩種泵。Pfeiffer 790 L/s 是總體成本效益、高質量泵送的理想選擇，尤其適用于低溫和熱蒸發。Brook CTI-8F 可用于需要盡可能低真空度的應用，特別是熱蒸發和電子束應用。

右邊的圖表顯示了配備的 SPECTROS 150 工藝室按泵類型劃分的平均預期泵送性能，該工藝室清潔干燥，安裝了 （5） TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺長的 1.5 英寸金屬柔性波紋管粗加工線。