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當前位置:首頁  >  產品中心  >  半導體前道工藝設備  >  3 CVD  >  PlasmaPro 100 Nano等離子增強化學氣相沉積

等離子增強化學氣相沉積

簡要描述:PlasmaPro 100 Nano
用于生長1D / 2D納米材料和異質結構的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過在線催化劑活化和嚴格的工藝控制,實現納米材料的高性能生長。

  • 產品型號:PlasmaPro 100 Nano
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2025-06-05
  • 訪  問  量: 401

詳細介紹

  • 更佳的均勻性以及靈活的溫度范圍, 最高可達1200°C

  • 700°C、800°C或1200°C工作臺可供選擇

  • 樣品尺寸可達200mm

  • 真空傳送腔——快速更換樣品

  • 冷壁設計并輔以可均勻輸送氣體/液體源前驅體的噴頭

  • 可選的液體/固體源前驅體輸送系統,用于生長MOS2、MOSe2和其它TMDCs材料

應用:

  • 二維材料 生長

  • MoS2 生長

  • 石墨烯 生長

  • 一維材料 生長

  • 碳納米管(CNT)生長

  • 氣柜 —— 包含額外的氣體管線,提供更大的靈活性

  • 渦輪分子真空泵 —— 提供泵送速度加快氣體的流動速度

  • 光學終點探測—— 實現更好工藝結果的重要工具

  • TEOS液位傳感 —— 使用安裝在TEOS罐上的超聲波液位傳感器實現液位傳感




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