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紫外線臭氧清洗設(shè)備

簡(jiǎn)要描述:UV-300HC紫外線臭氧清洗設(shè)備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機(jī),用于生產(chǎn)。這個(gè)行業(yè)先的系統(tǒng)有2個(gè)裝載盒,可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的組合,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體(GaN、SiC、GaAs和InP)、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。

  • 產(chǎn)品型號(hào):UV-300HC
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2025-06-05
  • 訪  問(wèn)  量: 524

詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述

UV-300HC是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機(jī),用于生產(chǎn)。這個(gè)行業(yè)先的系統(tǒng)有2個(gè)裝載盒,可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的組合,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體(GaN、SiC、GaAs和InP)、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。

2. 設(shè)備用途/原理

大加工尺寸為?240 mm (?3" x 5, ?4" x 3, ?8" x 1)200 - 300 nm/min的高灰化率。加熱階段加快了清洗速度,實(shí)現(xiàn)了寬廣的工藝溫度范圍。通過(guò)調(diào)整平臺(tái)和石英擴(kuò)散板之間的間隙,可以提高基板的均勻性。緊湊,使用小的潔凈室空間簡(jiǎn)單,在大氣壓下操作--不需要真空系統(tǒng)。柔軟、干燥的工藝不會(huì)對(duì)基材造成電損傷。內(nèi)置臭氧催化劑裝置,可將廢氣中的臭氧濃度降低到安全水平。

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